利用雙束 2-微米雷照射提升極紫外光轉換效率
為何重要
此技術為高 NA 與超遠場光學 (hyper-NA) 製程所需的 mega-Watt 等級高效能 EUV 光源提供了一條具備擴充套件性的實務驗證路徑。
日本研究團隊（包含宇都宮大學、理研、東大、東北大學等）發表實驗結果，證實透過兩束 2-µm 雷射同時照射平面錫靶，可將 EUV 轉換效率 (CE) 提升約 40%。單束 40 mJ 雷射產生 2.6% CE，但將能量均分為兩束 20 mJ 雷射時，在相同峰值強度下 CE 可跳升至 3.6%，創下目前 2-微米雷射驅動光源的歷史新高。