晶圓製程檢測：利用視覺語言模型強化光刻缺陷偵測
為何重要
對半導體製造業而言，這類技術能大幅提升微小缺陷的檢測可靠性，有助於減少良率損失並最佳化生產流程。
韓國研究團隊提出了一個兩階段的視覺語言框架，用於半導體光刻缺陷檢測。第一階段透過 LoRA 微調 Qwen3-VL 作為介面卡來預測缺陷與位置，第二階段則訓練修正模組審視並修訂第一階段的輸出，藉由學習介面卡失敗案例來提升推論準確度。
對半導體製造業而言，這類技術能大幅提升微小缺陷的檢測可靠性，有助於減少良率損失並最佳化生產流程。
韓國研究團隊提出了一個兩階段的視覺語言框架，用於半導體光刻缺陷檢測。第一階段透過 LoRA 微調 Qwen3-VL 作為介面卡來預測缺陷與位置，第二階段則訓練修正模組審視並修訂第一階段的輸出，藉由學習介面卡失敗案例來提升推論準確度。