ai.doge.tg 繁體 AI 情報 最新 專案 搜尋 Telegram ↗

商用領域最高耐壓:Power Integrations 發表 2200V 氮化鎵技術

晶片 1 個來源 · 15 小時前
為何重要

這項突破成功將氮化鎵的應用領域提升至傳統上由碳化矽 (SiC) 獨佔的更高電壓範圍,使其在高壓直流輸送與工業電力轉換上更具競爭力,對於強調功率密度與效率的電源供應商(如電動車與雲端資料中心業者)而言,意味著更緊湊的架構與更低的損耗。

Power Integrations 於當地時間 8 月 5 日宣佈其 PowiGaN 氮化鎵技術耐受電壓提升至 2200V,成為商用領域最高紀錄。- 該技術支援高壓匯流排架構,適用於未來資料中心、電動車、光伏逆變器及電池儲能系統。- 執行長 Jennifer Lloyd 指出此技術在提供電壓裕度的同時,能實現高開關頻率以最大化功率密度。- 此里程碑將氮化鎵推向傳統由碳化矽 (SiC) 覆蓋的高壓電壓區間。

Power IntegrationsPowiGaNGaN2200VSiC

來源 · 1 篇報導

首發 IT之家 ithome.com 08:55