NbAs 奈米線隨互連尺寸縮小呈現較低電阻率
為何重要
此研究針對高密度封裝與先進製程下，隨著互連尺寸縮小導致的電氣特性劣化問題提供了新材料解決方案。透過利用 Weyl semimetal 奈米線，或許能突破傳統銅導線的物理極限。對於半導體材料供應鏈而言，這是探索矽基以外的載子傳輸途徑的重要一步，但目前仍處於基礎研究階段。
康乃爾大學、國立陽明交通大學與 IBM Research 等單位發表技術論文，探討利用 Weyl 半金屬 NbAs 奈米線作為下一代互連材料的可能性。
- 研究透過熱機械微成型技術合成具有單晶特性的 NbAs 奈米線。
- 該奈米線的直徑可精確控制至 40 奈米。
- 相關論文標題為「Surface-dominant transport in Weyl semimetal NbAs nanowires for next-generation interconnects」，發表於 *Science* 期刊。