中國開始大量生產國產浸沒式 DUV 光刻機，首批機臺將交付給中芯、華虹與長鑫
為何重要
這項突破意味著中國在高度限制的環境下正努力建立半導體裝置的自主供應鏈，雖然目前新機臺的解析度與疊對精度仍落後 ASML 多年，且商業化時間表被推遲到 2030 年代中期，但在手術刀式制裁（如 MATCH Act）即將擴及既有裝置維護的背景下，這些機臺將成為三大受限制企業維持基本產能的關鍵備援。對於投資人而言，這代表中國大廠對 ASML 的高度依賴正在被緩解，但新機臺的良率與穩定性尚未經過市場考驗，無法否決高階製程封鎖的戰略效應。
上海一家國營支援的初創公司「上海煜量生」已展開浸沒式深紫外線（DUV）光刻機的大規模生產，預計在 2025 年向中芯國際、華虹半導體與長鑫儲存技術等大廠交付首批機器。
- 生產目標方面，預計 2026 年出貨約 5 臺、2027 年約 20 臺。
- 受貨廠商均被美國國會法案 HR 8170（MATCH Act）列為限制物件，該法案禁止 ASML 出售及維修工具給這些公司。
- 技術現狀顯示，新系統多數零件來自國產，但關鍵部件仍需日本供貨；AI Futures Project 預估商業級中國浸沒式 DUV 技術要到 2030 年代中期才會成熟。
- 在與 ASML 的競爭上，市調機構指出 ASML 仍持有浸沒式市場約 98.7% 的市佔率。