上海艾晟納被點名為中國首臺國產浸潰 DUV 光刻機製造商，首顆商用 7nm 機臺預期 2038 完成
為何重要
此報導揭示了中國半導體硬體製造在地緣政治下的質與量差距：即便路透確立了第一家國產浸潰光刻機廠商，但 AI Futures Project 的預測顯示其商用化將落在 2030 年代中，且目前國產產業鏈在鏡頭、雷射源等關鍵領域仍落後十餘年以上。對投資人與產業界而言，這意味著中國晶片商在未來幾年內難以完全擺脫 ASML 的裝置依賴，短期的產能爬升仍將受到監管與硬體良率的雙重製約。
路透社報導指出上海艾晟納（Aishengna）被列為中國首家國產浸潰式深紫外光（DUV）掃描器的製造商，該公司於 2023 年成立並吸收了 SMEE 與瑪瑞亞的團隊；但產業分析指出核心投影鏡頭、雷射源及配套光阻仍質量落後，嚴重限制了產出效能。對於目前缺乏 EUV 的中國晶廠而言，7nm 以下製程仍需依賴高強度且不夠周全的 DUV 多次曝光。